|
Устройства, разработанные в СФ ФИАН, предназначены для получения газовых потоков с высоким содержанием возбуждённых и химически активных молекул и атомов - атомарного кислорода, синглетного кислорода, озона, атомарного йода, атомарного хлора и других. |
|||
В этих устройствах возбуждённые и химически активные молекулы и атомы в газах создаются с помощью самостоятельных стационарных разрядов типа тлеющего. В устройствах используются разрядные системы, обеспечивающие получение самостоятельного разряда с высокими удельными энерговкладами, например, в кислороде - до ~7 кДж/г (~2 эВ на молекулу). Повышенная стабильность разряда в различных газах, включая сильно электроотрицательные, достигается, благодаря использованию закрученного или вихревого высокоскоростного газового потока. На рисунках 1 и 2 представлены два варианта разрядных камер. |
|
|||
|
Газы, активированные в плазме
электрического разряда, могут использоваться: для обработки поверхностей различных материалов, например, пластмасс, полимерных пленок, с целью улучшения свойств поверхности, повышения адгезионных характеристик; для испытаний стойкости материалов к агрессивному воздействию, например, атомарными кислородом или галогенидами; для очистки воздуха от вредных примесей и загрязнений; для осаждения газов, подобных силану, на поверхности; для распыления и травления фоторезиста в производстве микросхем; для обеззараживания медицинских изделий и инструментов. |
|||
Одно из устройств, например, - источник атомарного йода - позволяет получать наибольшие концентрации атомов йода до ~1016см3 в потоке аргона с давлением 30 мм рт. ст. | ||||
Контакты: |